DNF次元回廊隱藏露滴者機(jī)制是什么？作為次元回廊副本中的boss之一，很多玩家還不清楚隱藏露滴者的打法機(jī)制，今天小編來(lái)和大家分析一下隱藏露滴者的機(jī)制，讓玩家快速掌握隱藏露滴者boss的通關(guān)打法技巧。

dnf次元回廊隱藏露滴者打法機(jī)制攻略

　　1、元素之墻(常駐核心機(jī)制)

　　非常考驗(yàn)玩家的走位，場(chǎng)地將會(huì)被數(shù)道元素之墻切割，場(chǎng)地內(nèi)出現(xiàn)元素墻將會(huì)阻擋玩家的移動(dòng)，只能通過(guò)場(chǎng)地外的元素墻進(jìn)行穿越移動(dòng);

　　場(chǎng)地外的元素墻移動(dòng)效果為對(duì)稱移動(dòng)，即向上走會(huì)出現(xiàn)下方，向左走會(huì)出現(xiàn)在右邊，玩家需利用對(duì)稱移動(dòng)的性質(zhì)，快速找到BOSS或者躲避BOSS的攻擊;

　　2、水系魔法陣

　　BOSS將會(huì)召喚三個(gè)大魔法陣，這些魔法陣需要玩家在跳上去反復(fù)踩踏才能擊破，在剛生成時(shí)普通跳躍即可跳上魔法陣，魔法陣升空后，所以需要躍翔或者吸收?qǐng)龅厣系男∷螐椞?

　　吸收這個(gè)水滴后可進(jìn)行1次超高跳躍，至少得踩破一個(gè)魔法陣，否則三個(gè)魔法陣在機(jī)制后的AOE正好可以覆蓋全屏;

　　3、水系暴雨(容易大量扣血)

　　機(jī)制開啟后場(chǎng)地將出現(xiàn)漂浮水滴，此時(shí)一定需要注意觀察水滴投射的陰影，需要及時(shí)站到陰影處躲避接下來(lái)的暴雨AOE;

　　陰影不一定會(huì)在水滴的正下方，暴雨AOE后需要迅速遠(yuǎn)離水滴(會(huì)自爆)同時(shí)該機(jī)制也會(huì)與元素墻同時(shí)出現(xiàn)，需要及時(shí)走位躲避;

　　此外暴雨機(jī)制也會(huì)以鎖定攻擊的模式出現(xiàn)，被鎖定的玩家可以控制暴雨位置，組隊(duì)情況下切記遠(yuǎn)離隊(duì)友;

　　4、土系封印球

　　BOSS將會(huì)召喚帶有印記的石球，需要跳躍頂球把球頂破，否則會(huì)出現(xiàn)大范圍AOE，同時(shí)附加喪失DEBUFF(低血基本無(wú)視);

　　5、土系旋轉(zhuǎn)

　　BOSS將會(huì)召喚6顆不斷旋轉(zhuǎn)的石球，根據(jù)BOSS周圍位置分兩種情況，第一種情況BOSS近身沒(méi)有空間，需要遠(yuǎn)離BOSS的AOE;

　　第二種情況，BOSS近身出現(xiàn)安全地帶，則需要靠近;

　　6、魔力集中(土)

　　讀條開始后，場(chǎng)地將會(huì)陸續(xù)出現(xiàn)大量印記石球并伴隨大量AOE爆炸和元素墻，當(dāng)讀條走到中間時(shí)爆炸才會(huì)基本結(jié)束;

　　印記石球的破解方法就是跳躍頂破，需要集中頂破一個(gè)區(qū)域內(nèi)的印記石球創(chuàng)造安全區(qū)域，頂破石球可以削弱BOSS的韌性條，讀條結(jié)束全部印記石球爆炸，范圍較大(覆蓋機(jī)理與水系魔法陣機(jī)制類似);

　　7、光系魔法陣(超越)

　　該模式下主要威脅為大量的旋轉(zhuǎn)魔法陣，需要通過(guò)跳躍及時(shí)踩破;

　　8、魔力集中(光)(超越)

　　BOSS將會(huì)往面對(duì)的方向釋放高傷AOE，及時(shí)通過(guò)元素墻繞背即可;

　　9、施展消滅魔法(超越)

　　超越模式最終大招，BOSS將會(huì)開啟讀條蓄力，此時(shí)場(chǎng)地出現(xiàn)大量魔法陣，此時(shí)破解思路有二：

　　①直接強(qiáng)殺：有把握在讀條內(nèi)干掉BOSS則直接強(qiáng)殺(約15秒輸出時(shí)間)

　?、谄平鈾C(jī)制：踩魔法陣跳躍(常規(guī)跳躍頂不到)可以頂?shù)紹OSS的蓄力球，可以逐漸擊破蓄力球，蓄力球擊破后BOSS癡呆6秒左右

　　此時(shí)每次正確頂?shù)紹OSS蓄力球，場(chǎng)上就會(huì)出現(xiàn)小范圍爆炸，所以強(qiáng)殺和正常破解是相互沖突的，正常破解的破解途中基本無(wú)法正常輸出，大部分情況下還是建議走完機(jī)制(強(qiáng)殺依然也要處理魔法陣)。